应用领域您所在的位置：首页->应用领域

电子半导体超纯水系统

作者：admin   发布于：2008/10/26

超纯水技术的发展主要是随着半导体技术发展起来，随着半导体大规模集成电路、8吋、12吋晶圆的运用，对超纯水技术的要求

愈加严格，不仅仅限于电阻率≥18.1MΩ.cm at 25℃ 甚至18.2MΩ.cm对TOC、DO、SiO2、Particle、各种离子指标也有更高的

要求。

 常规水质指标：

电阻率：≥18.1MΩ.cm at 25℃

TOC:   ≤5 ppb

颗粒：（≥0.1um）：≤5 pcs/mL

SiO2：≤2 ppb

DO：≤5 ppb

Na+：≤50 ppt

细菌：≤1 cfu/L

工艺流程：

MMF+ACF(或：前处理UF)+Double Pass RO+TOC UV1+DO1+EDI+ TOC UV2+ DO2+Polisher 1+Polisher 2 +UF